一種一步式和室溫處理工藝,利用超快脈沖激光燒蝕氧化鈦或金屬鈦靶將金 屬氧化物,如結晶二氧化鈦(TiO2)的納米顆?;蚣{米復合材料(納米顆粒組合的)薄 膜沉積在基片表面上。所述系統包括脈沖激光,它的脈沖持續時間范圍從幾飛秒 至幾十皮秒;光學設置,用于處理激光束,使得激光束以適當的平均能量密度和 適當的能量密度分布聚焦在靶表面上;和真空腔,其中安裝有靶和基片,并且在 其中可適當調節背景氣體和它們的壓強。
聲明:
“沉積結晶二氧化鈦納米顆粒和薄膜的方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)