本發明公開一種二氧化硅納米球陣列?VO2薄膜復合結構制備方法,利用提拉鍍膜和磁控濺射鍍膜工藝制備VO2薄膜沉積在二氧化硅納米球陣列的結構,通過調節快速熱退火的方式制備二氧化釩薄膜參數,并借助傅里葉變換紅外光譜儀探討結構透射率的變化規律。本發明將二氧化釩球殼和二氧化硅材料的結合展現出的結構色可以用在智能窗顏色的調節上,可以開發更具應用價值的復合材料。
聲明:
“二氧化硅納米球陣列-VO2薄膜復合結構制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)