半導體納米線基有機/無機復合太陽能電池的制備方法屬于新能源技術領域。其特征是先利用電化學腐蝕或水熱腐蝕技術制備出在可見光區域具有良好光吸收性能的納米硅,在納米硅襯底上利用高溫化學氣相沉積法或低溫液相化學方法生長出氧化鋅或二氧化鈦或硫化鎘或硒化鎘納米線陣列,進而在納米線陣列上旋涂3-己基噻吩(P3HT)或聚[2-甲氧基-5-(2-乙基己氧基)-1,4-苯乙烯](MEH-PPV)或聚3-辛基噻吩(P3OT)構成三層復合結構體系。最后制備氟化鎂或氟化鈣表面增透膜及金屬薄膜電極來形成太陽能電池器件。本發明工藝簡單,操作簡便易行,制備條件溫和,重復率達到100%,制備得到的有機/無機復合材料體系是未來制造全硅基太陽能電池器件的重要材料。
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