本發明涉及高分子材料技術領域,公開了一種聚酰亞胺/二氧化硅復合材料的制備方法以及由該方法制備的材料,該方法包括:將聚酰亞胺基體與堿液接觸,得到經堿液處理的聚酰亞胺基體;將含有硅源的分散液置于反應器中,將經堿液處理的聚酰亞胺基體置于所述分散液上方,密閉反應器,將分散液的溫度升高至反應溫度為100?160℃,并保持2?24小時;將得到的聚酰亞胺基體進行熱處理。根據本發明的聚酰亞胺/二氧化硅復合材料的制備方法,在聚酰亞胺薄膜和具有大的比表面積的聚酰亞胺纖維、納米纖維膜等基體材料的表面均能形成均勻生長的二氧化硅層,不僅保持了聚酰亞胺材料本身的力學性能,而且有利于提高聚酰亞胺材料表面的抗原子氧能力。
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