本發明提供了一種用于空間中子屏蔽的聚合物復合材料及其制備方法,所述復合材料利用氮化硼納米片表面的氨基與馬來酸酐的快速酰胺化反應、在熔融混煉過程中將馬來酸酐接枝聚乙烯接枝到氮化硼表面,形成一種改性的氮化硼納米片填料,提升填料與聚乙烯基體的相互作用,使之可以均勻分散,得到界面面積更大的納米復合屏蔽材料。本發明提供的技術方案具有設備成本低、工藝簡單等特點,所制備的氮化硼納米片/聚乙烯納米復合材料具有均勻的納米填料分布結構和顯著提高的中子屏蔽性能。
聲明:
“用于空間中子屏蔽的聚合物復合材料及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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