本發明屬于二維納米材料技術領域,尤其涉及一種插層分子及其制備方法、二維納米復合材料。本發明先在苝四甲酸二酐分子上接上氨基酸分子,提高苝四甲酸二酐分子的溶解度,得到插層分子;然后以插層分子插層二維片層材料制備二維納米復合材料,本發明所述方法制備得到的二維納米復合材料呈現均勻的片層狀結構,且結構規整、無團聚,分散性好。
聲明:
“插層分子及其制備方法、二維納米復合材料” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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