本發明公開了一種石墨烯薄膜/硅復合材料的制備方法,涉及涉及離子儲能材料技術領域。石墨烯薄膜的制備:以天然鱗片石墨為原料,采用電化學非氧化層離的方法制備多層石墨烯漿體,并在基板上經刮涂、干燥后,依次進行炭化、石墨化,即得石墨烯薄膜;石墨烯薄膜/硅復合材料的制備:以制備的石墨烯薄膜作為基底,采用磁控濺射的方法依次在基底材料上交替生長粘結材料和硅材料,并使硅材料處于粘結材料的層狀包裹結構中,即得石墨烯薄膜/硅復合材料。本發明以天然鱗片石墨為原料,采用磁控濺射技術,將硅、鎳材料與高導電石墨烯薄膜基底材料結合,制備硅基復合材料。
聲明:
“石墨烯薄膜/硅復合材料的制備方法及其應用” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)