本發明屬于納米磁性功能材料技術領域,涉及一種磁性納米反點陣列薄膜及其制備方法。反點陣列呈高度有序的六方形緊密排列結構,反點呈規則的正六邊形或圓形。其制備方法為:用聚苯乙烯微球組裝單層膠體晶體模板,在Ar氣氛圍下通過磁控濺射向模板縫隙間沉積金屬,通過調制濺射功率輕易控制反點陣列的形貌,得到所述磁性納米反點陣列薄膜。本發明的磁性納米反點陣列薄膜可以兼顧高有序度、高矯頑力和反點形貌可調等基本要素。本發明的制備方法工藝簡單、易于操作。本發明所得到的孔徑100~500nm的磁性納米反點陣列薄膜可以廣泛用于高密度磁存儲介質、高效催化劑及傳感器等領域。
聲明:
“磁性納米反點陣列薄膜及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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