權利要求
1.可調控周期的光柵，其特征在于，包括：基底層（1）；
光柵層（2），所述的光柵層（2）設置在所述基底層（1）之上；
包層薄膜（3），所述的包層薄膜（3）設置在所述光柵層（2）之上；
所述光柵層（2）由可逆相變材料制成；所述光柵層（2）上設置有光柵結構（4）；
所述光柵結構（4）包括多個光柵周期結構（5），所述多個光柵周期結構（5）由激勵信號刻畫而成；
每個所述光柵周期結構（5）包括至少兩個直線結構（6）；
所述至少兩個直線結構（6）的折射率不同。
2.根據權利要求1所述可調控周期的光柵，其特征在于，
每個所述光柵結構（4）包括：第一直線結構和第二直線結構，所述第一直線結構和所述第二直線結構的折射率差值的范圍為0~0.9。
3.根據權利要求1所述可調控周期的光柵，其特征在于，所述至少兩個直線結構的折射率沿所述至少兩個直線結構的設置方向呈階梯周期變化。
4.根據權利要求3所述可調控周期的光柵，其特征在于，所述光柵周期結構（5）中的相鄰直線結構可以是周期漸變的，所述的周期漸變是指相鄰直線結構（6）的折射率沿直線結構（6）的設置方向是平穩光滑的漸變。
5.根據權利要求4所述可調控周期的光柵，其特征在于，所述光柵結構（4）的折射率大于所述光柵層（2）中未設置有所述光柵結構（4）的區域的折射率；
所述光柵層（2）中未設置有所述光柵結構（4）的區域的折射率大于所述基底層（1）、所述包層薄膜（3）的折射率。
6.根據權利要求1所述可調控周期的光柵，其特征在于，
具有不同折射率的所述直線結構（6）由不同能量大小的激勵信號刻畫而成；
具有不同周期的所述光柵周期結構（5）由不同尺寸的激勵信號刻畫而成。
7.根據權利要求1所述可調控周期的光柵，其特征在于，
所述基底層（1）為紅外透明結構，所述光柵結構（4）為透射式光柵結構；或，
所述基底層（1）為反射結構，所述光柵結構（4）為反射式光柵結構。
8.根據權利要求1-7任一項所述可調控周期的光柵，其特征性在于，所述直線結構（6）的最小線寬為200nm。
9.一種可調控周期的光柵的制備方法，其特征在于，包括：
選取鍍好可逆相變材料和包層薄膜
聲明：
“可調控周期的光柵及制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)
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編輯：中冶有色網
來源：中山大學
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2025年08月07日 ~ 09日 
