本發明公開了一種氮化鈦膜制備方法。本發明提供的利用真空電弧離子鍍技術制備的氮化鈦膜,通過對電弧離子鍍技術中氮分壓逐漸增強的沉積方式進行鍍膜。該工藝方法設計合理,在粉末冶金材料GT35上通過克服材料變形、膜層內應力集中、膜層在銳邊夾角容易崩落、長時間沉積厚膜等的種種難題,解決了氮化鈦硬質膜厚度在8μm以上無法制備的現狀,得到了膜層厚度、硬度、結合力等性能均優良的氮化鈦膜。
聲明:
“氮化鈦膜制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)