本發明涉及粉末冶金技術領域,具體涉及一種高純釕濺射靶材的制備方法,主要包括破碎、球磨、裝模、單向熱壓成型等步驟,裝模過程中,采用3種不同粒度級別的粉料相互填充,最后燒結成型。本發明采用粉末冶金方法,可在低于材料熔點的溫度下制備靶材,不僅大大降低了設備的操作難度,也可有效控制制備過程中雜質的引入,還可通過控制原料高純釕粉體的粒度和燒結工藝制度來實現靶材組織精細度的可控制備,從而在提高釕靶材產品質量穩定性的同時大大降低生產成本,能夠得到顯微組織均勻可控的高性能低成本高純釕靶材。
聲明:
“高純釕濺射靶材的制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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