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            測量痕量金屬離子濃度的方法和裝置

            1068   編輯:管理員   來源:中冶有色網  
            2023-03-18 14:35:03
            本發明提供了一種測量痕量金屬離子濃度的方法和裝置,該方法包括:S1,根據包含痕量金屬離子的溶液在全波段的吸光度,使用預測均方根誤差獲取所述全波段內的最優波長區間;S2,通過相關系數法獲取所述最優波長區間內測量所述痕量金屬離子濃度的有效波長點。通過采用間隔?相關系數偏最小二乘法,快速高效地去除高濃度基體離子的敏感區域和空白信息區域,剔除非線性強、信息量少、被基體離子掩蔽的波長點,最大程度地保留痕量待測離子完整可用的信息,減小高濃度基體離子對痕量待測離子的干擾,同時保持待測離子的靈敏度,減少變量個數,提高模型的精度和實時性。
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            “測量痕量金屬離子濃度的方法和裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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