權利要求書： 1.一種陶瓷基復合材料表面耐溫達1300℃的可磨耗復合涂層的制備方法，其特征在于該制備方法具體是按以下步驟完成的：一、基材的預處理：去除基材表面的雜質和油污，再在基材表面制備具備機械錨定的微織構，得到預處理后的基材；步驟一中所述的基材為陶瓷基質復合材料；所述的陶瓷基質復合材料為C/C、SiC/SiC、C/SiC或SiC/Si3N4；步驟一中在基材表面制備具備機械錨定的微織構的方法是：在高純氧氣氣氛下，采用激光毛化技術，在基材表面形成具備機械錨定的微織構；所述的具備機械錨定的微織構的形狀為方格、韌窩和凹槽中的一種或其中幾種的組合；步驟一中所述的激光毛化技術的工藝參數：功率10～20kW，掃描速率200～800mm/s，頻率40～80kHz；二、制備粘結層：①、對預處理后的基材進行短時原位高溫熱處理或離位高溫熱處理，得到熱處理后的基材；②、采用大氣等離子噴涂法將粘結層粉體噴涂到熱處理后的基材表面，得到表面含有粘結層的基材；步驟二②中所述的粘結層粉體為Si/HfO2粉體，其中所述的Si/HfO2粉體中Si粉和HfO2粉的質量比為(30～70):(70～30)；步驟二②中所述的粘結層的厚度為25μm～100μm；三、制備環境障礙層：采用大氣等離子噴涂法將環境障礙層粉體噴涂到表面含有粘結層的基材表面，得到表面含有環境障礙層的基材；步驟三中所述的環境障礙層粉體為Yb2Si2O7/Yb2SiO5粉體，其中所述的Yb2Si2O7/Yb2SiO5粉體中Yb2Si2O7粉和Yb2SiO5粉的質量比為(25～75):(75～25)；步驟三中所述的環境障礙層的厚度為50μm～200μm；四、制備可磨耗封嚴涂層：采用大氣等離子噴涂法將可磨耗封嚴涂層粉體噴涂到表面含有環境障礙層的基材表面，得到表面含有可磨耗封嚴涂層的基材，即完成一種陶瓷基復合材料表面耐溫達1300℃的可磨耗復合涂層的制備；步驟四中所述的可磨耗封嚴涂層粉體由陶瓷骨架、潤滑劑和造孔劑制備而成，其中陶瓷骨架的質量分數為80％～92％，潤滑劑的質量分數為4％～10％，造孔劑的質量分數為4％～10％；步驟四中所述的陶瓷骨架為氧化物穩定氧化鉿、稀土鉭酸鹽或稀土鈮酸鹽；步驟四中所述的可磨耗封嚴涂層的厚度為50μm～500μm。2.根據權利要求1所述的一種陶瓷基復合材料表面耐
聲明：
“陶瓷基復合材料表面耐溫達1300℃的可磨耗復合涂層的制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)
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編輯：中冶有色網
來源：哈爾濱工業大學
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2025年07月18日 ~ 20日 
