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PECVD等離子氣相沉積設備是借助微波或射頻等使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學活性很強,很容易發生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜, 該系統主要用于金屬粉末鍍膜。
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