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            江蘇蘇青水處理工程集團有限公司
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            光學表面缺陷分析儀

            光學表面缺陷分析儀

            376
            規格/型號:Lumina AT1
            品牌:納騰
            應用領域:檢測設備
            產地:上海 - 上海
            廠家/供應商:上海納騰儀器有限公司
            咨詢電話::021-6428 3335(請說明信息源自“中冶有色網”)
            更新時間:2025-07-07
            級別:待認證

            光學表面缺陷分析儀說明介紹

            光學表面缺陷分析儀

            光學表面缺陷分析儀


            一、簡介

            Lumina AT1光學表面缺陷分析儀可對玻璃、半導體及光電子材料進行表面檢測。Lumina AT1既能夠檢測SiC、GaN、藍寶石和玻璃等透明材料,又能對Si、砷化鎵、磷化銦等不透明基板進行檢測,其價格優勢使其成為適合于研發/小批量生產過程中品質管理及良率改善的有力工具。

            Lumina AT1結合散射測量、橢圓偏光、反射測量與表面斜率等基本原理,以非破環性方式對Wafer表面的殘留異物,表面與表面下缺陷,形狀變化和薄膜厚度的均勻性進行檢測。

            1.偏振通道用于薄膜、劃痕和應力點;

            2.坡度通道用于凹坑、凸起;

            3.反射通道用于粗糙表面的顆粒;

            4.暗場通道用于微粒和劃痕;

            二、 功能

            l 主要功能

            1. 缺陷檢測與分類

            2. 缺陷分析

            3. 薄膜均一性測量

            4. 表面粗糙度測量

            5. 薄膜應力檢測

            l 技術特點

            1.透明、半透明和不透明的材料均可測量,比如硅、化合物半導體或金屬基底;

            2.實現亞納米的薄膜涂層、納米顆粒、劃痕、凹坑、凸起、應力點和其他缺陷的全表面掃描和成像;

            3.150mm晶圓全表面掃描的掃描時間為3分鐘,50x50mm樣品30秒內可完成掃描并顯示結果;

            4.高抗震性能,系統不旋轉,形狀無關,可容納非圓形和易碎的基底材料;

            5.高達300x300mm的掃描區域;可定位缺陷,以便進一步分析;技術能力

            三、應用案例

            1. 透明/非透明材質表面缺陷檢測

            2. MOCVD外延生長成膜缺陷管控

            3. PR膜厚均一性評價

            4. Clean制程清洗效果評價

            5. Wafer在CMP后表面缺陷分析

            6. 多個應用領域,如AR/VR、Glass、光掩模版、藍寶石、Si wafer等

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            上海納騰儀器有限公司
            企業認證:
              
            所屬領域:
            檢測設備
            企業性質:
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            經營范圍:
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