小型分體式磁控濺射儀是一款小型的單靶磁控濺射鍍膜儀,配有一個2英寸的磁控等離子濺射頭。射頻等離子電源和高壓直流電源兩種電源可選,用于鍍膜各種薄膜材料。單靶射頻磁控濺射儀體積小巧,功能出色、配置齊全,兼容超凈間,性能穩定??捎糜谥苽涓哔|量的金屬薄膜、半導體薄膜、介電、絕緣材料薄膜以及復合薄膜、多層異質結等,廣泛應用于材料科學、電子工程、光學、航空航天等領域。
技術參數:
小型磁控濺射儀通常采用磁控濺射技術,具有結構緊湊、操作簡便、性能穩定等特點。其核心部件包括濺射靶材、磁場系統、真空室、氣體供應系統和控制系統等。在濺射過程中,通過調整磁場、氣體壓力和濺射功率等參數,可以實現對薄膜成分、結構和性能的精確控制。