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設備名稱 Equipment Name
板式透明導電薄膜沉積設備(RPD/PAR/PVD) Inline TCO Coating Equipment (Reactive Plasma Deposition, RPD/PAR),and Magnetron Sputter,PVD
設備型號 Equipment Model
PAR5500A
設備用途 Equipment Application
板式物理鍍膜設備用于鍍著透明導電薄膜于襯底(硅片、玻璃片、柔性基板)。
In-line physical coating equipment for Transparent Conductive Oxide (TCO) coating on wafer,glass plate or flexible substrate.
鍍膜原理 Coating Principle
1、磁控濺射沉積。
Magnetron Sputter (PVD).
2、反應式等離子體沉積。
Reactive Plasma Deposition (RPD).
板式透明導電薄膜沉積設備技術特點 Features
1、PVD具有多階陰極，可以制備種子層與多種折射率的疊層TCO。
Multiple cathode operation for seed layer and multiple refractive index tandem TCO.
2、RPD具有無高能離子轟擊襯底特點，能制備高少子遷移率的TCO。
No bombardment on the substrate while keeping high mobility.
設備參數 Parameters
M6,M10,M12/G12,整片/半片Full/Half Cell
用途、型號、載板尺寸(幅寬x長)、鍍膜形式、電池應用
量產型：PVD8000、2040mmx2645mm、臥式Horizontal、異質結，鈣鈦礦，HJT,PSC
量產型：PAR5500A、2290mmx1920mm、臥式Horizontal、異質結，鈣鈦礦，HJT,PSC
中試型：RPD1000S、370mmx470mm、臥式Horizontal、異質結，鈣鈦礦，HJT,PSC
中試型：RPD1000T、450mm x650mm、臥式Horizontal、異質結，鈣鈦礦，HJT,PSC
量產型：RPD1200V、1200mmx1200mm、立式Vertical、鈣鈦礦，PSC
量產型：RDP2000V、2000mmx1000mm、立式Vertical、鈣鈦礦，PSC
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湖南 - 長沙
2025年08月07日 ~ 09日
