開放式微焦點X射線源
開放式微焦點X射線源采用微米級焦斑設計,結合高精度控制系統和穩定的高壓、冷卻系統,可在高倍放大下清晰檢測細小缺陷,適用于無損檢測、離線/在線檢測等多種場景。
產品介紹
開放式微焦點X射線源焦點尺寸極小,在對檢測工件進行高倍投影放大的情況下,仍可以獲得高度清晰的X射線圖像,可以檢測常規射線源無法檢測的細小缺陷。非常適合進行無損檢測質量控制,離線/在線檢測,以及測量缺陷從幾毫米到2微米的工件。
系統組成
開放式微焦點X射線管
開放式:采用開放式封裝結構。
微焦點:通過電場聚焦與電磁聚焦相結合使電子聚焦的方式,獲取微米級焦斑。
真空系統
體積小、振動小、干燥無污染、無油系統、極限真空度高、任意角度擺放。
控制系統
控制系統采用模塊化設計,集成度高,體積小。
各模塊均采用32位ARM處理器作為控制核心。連續長時間運行穩點,控制精度高,響應速度快。
系統具有自校準功能以達到最佳性能。
冷卻系統
冷卻分自然冷卻與強制冷卻。
透射式微焦點X射線管采用自然冷卻方式。
反射式微焦點X射線管采用水冷進行強制冷卻。
高壓系統
160KV陰極高壓發生器。
高壓穩定可控,最小電壓調節可達0.1KV。
高靈敏的柵極高壓,管電流穩定可控。
可長時間連續工作,穩定耐用。