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產品應用：
采用高頻感應加熱、激光加熱或電子束加熱，利用雜質元素在固相和液相之間溶解度的不同，通過熔區的運動提純材料的工藝設備。用于生產高純度的陶瓷、金屬、合金、無機和有機化合物晶體。
技術參數：
1. 感應熔煉水平區熔提純爐：(HVZM-I)
2. 電子束熔煉垂直區熔提純爐：(HVZM-EB)
3. 激光束熔煉垂直區熔提純及單晶生長爐：(HVZM-L)
4. 感應熔煉水平區熔+垂直區熔聯合提純爐：(HVZM-IF)
型號HVZM-EBHVZM-LHVZM-1
真空性能極限真空度6.67 x 10-4Pa6.67 x 10-4Pa6.67 x 10-4Pa
壓升率≤0.67Pa/H≤0.67Pa/H≤0.67Pa/H
抽氣系統分子泵+機械泵分子泵+機械泵分子泵+機械泵
真空測量系統數顯復合真空計數顯復合真空計數顯復合真空計
最高加熱溫度2600℃2600℃1800℃
最大棒料尺寸Dn10mm×200mmDn10mm×200mmDn20mm×200mm
樣品移動速度1mm/H~360mm/H1mm/H~360mm/H0.001~1mm/s
坩堝材質無坩堝結構無坩堝結構水平區熔采用水冷銅坩堝
立式區熔采用無坩鍋結構
電源最大功率10~30KW1.5~2KW75KW
控制系統PC+PLC控制系統實現設備的自動控制
設備尺寸(L×W×H,mm)2700×1500×21002700×1500×21003000×1500×1600
用電需求20~40KW,380V/3P/50Hz10KW,380V/3P/50Hz90KW,380V/3P/50Hz
設備特性1. HVZM-D, HVZM-L設有LMC液態金屬冷卻系統
2. HVZM-1F型的立式區熔模塊部分設有LMC液態金屬冷卻系統
★設備自帶進水分水器、回水回流器閥門及管路;不配置水循環系統;
★可選配水循環系統：包括不銹鋼水箱、水泵、閥門及管路等;
★可根據用戶需求非標定制。
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湖南 - 長沙
2025年08月07日 ~ 09日
