高真空電子束熱蒸發系統 E-Beam
高真空電子束熱蒸發系統(E-Beam)是冶金和材料科學領域中一種精密的真空鍍膜設備。該系統利用電子束蒸發源技術,能夠實現高效率和高精度的材料蒸發與沉積,適用于制備各種金屬、合金以及化合物薄膜。在冶金行業中,這種系統特別適用于高性能材料的制備,如高溫合金、磁性材料、光學涂層和電子材料等。
一、 設備主要功能及組成
1. 設備主要由高真空獲得與測量系統、樣品臺或工件轉架系統、電子束蒸發源系統及電氣控制系統等四部分組成。
2. 高真空機組采用復合分子泵和機械泵組成。
3. 樣品臺或工件轉架系統可根據工藝需要靈活定制所需功能。
4. 電子束蒸發源系統采用E型電子槍,270°束偏角,具有XY掃描功能,能實現坩堝內材料均勻熔煉。
5. 標配膜厚控制儀,進行在線測量和監控。
6. 電氣控制系統具有多種報警功能,能及時提示故障情況,保障設備安全運行。
二、 主要技術參數
1. 真空室尺寸:EB500、EB600(定制)
2. 極限真空度:≤6.7×10-5Pa
3. 漏率:≤10-7 Pa?L/s
4. 電子槍電源功率:6Kw
5. 電子槍高壓:6KV / 8KV可轉換
6. 最大電子束流:750mA
7. 坩堝容積:20ml(可定制)
8. 樣品臺:可在線升降、旋轉、襯底加熱
9. 工件轉架:行星式工件架,公轉自轉,增強鍍膜均勻性,可加熱
10. 可選配工藝系統:手套箱工作站、樣品預處理室、自動樣品庫等
11. 供電電源:380V 50Hz(三相五線制)
12. 進水排管徑:DN25
13. 工作水壓:0.2Mpa