渦輪葉片發射率測量加溫裝置
渦輪葉片發射率測量加溫裝置是一款專為高溫環境下渦輪葉片發射率測量設計的實驗設備。該裝置采用單工位、長方體式結構,上開門設計便于樣品的放置與取出。其溫度控制范圍為700℃至1200℃,控溫穩定度高達0.5℃,控溫儀表準確度達0.1%,能夠確保實驗過程中溫度的精確控制。裝置內部設有可調節高度的安裝平臺,適用于最大尺寸為200mm×100mm×50mm的葉片樣品,樣品放置后可通過石棉線密封縫隙以保證溫度均勻性。頂部中心位置設計有楔形測量孔,配備專用的楔形保溫堵,可在加熱至1200℃時快速切換至測溫狀態,確保測量區域內溫度梯度小于5℃/m。該裝置由加熱爐系統、電器控制系統和輔助系統組成,整體設計滿足高精度測量需求,為渦輪葉片的發射率研究提供可靠的實驗條件。
一、技術規格及要求:
1、工位及結構:單工位、長方體式,上開門結構;
2、控制方式:手動;
3、溫度范圍:700 ℃~1200 ℃,控溫穩定度:0.5℃,控溫儀表準確度:0.1%;
4、樣品為葉片,最大尺寸200(葉高)x100(寬度)x50(厚度),單位mm;
5、樣品放置于爐內,一面緊挨爐口,溫度穩定后同一對應位置的溫差(熱電偶監視)優于1℃,縫隙處可采用石棉線密封;6、樣品可放置于爐內的安裝平臺(爐口的蓋子可以拆卸,以便放置樣品),安裝平臺高度可調整(手動);
7、測量孔為楔形孔,斜度≤45°,高度≤100mm,最小直徑之Ф30mm,置于加熱爐頂部中心位置;
8、設計楔形保溫堵,加熱實驗時,將楔形堵安裝于楔形孔內,加熱至1200℃,測溫時打開楔形保溫堵,即刻測溫,保證測量孔,區域內的溫度梯度<5℃C/m。
二、系統組成:
本設備主要由加熱爐系統、電器控制系統、輔助系統等幾部分組成。