桌面RTP快速退火爐
產品型號:CY-RTP1000-Φ150-400-T
簡單介紹:
RTP快速退火爐由我公司自主研發的功能強大的加熱設備。RTP快速退火爐采用進口紅外線加熱管加熱,造型新穎結構合理,爐體和爐管可以自由滑動,可實現快速升降溫。爐管內尺寸120MM,可以直接放下4英寸的材料。試樣反應區處在一個密閉的石英腔體內,在完成生產工藝的同時,也大大降低了間接污染試樣的可能性。
詳情介紹:
RTP快速退火爐由我公司自主研發的功能強大的加熱設備。該產品采用進口紅外線加熱管加熱,造型新穎結構合理,爐體和爐管可以自由滑動,可實現快速升降溫。爐管內尺寸120MM,可以直接放下4英寸的材料。試樣反應區處在一個密閉的石英腔體內,在完成生產工藝的同時,也大大降低了間接污染試樣的可能性。
主要功能和特點:
1、可視化7寸觸摸屏,設定數據和操作都是圖文界面,操作方便;
2、爐體配備高精度移動平臺,運行平穩無抖動;
3、爐管可自由移動,且密封法蘭之間用搭扣壓緊連接,放、取物料方便快捷,避免了螺栓密封人為操作導致漏氣的可能;減少了因安裝法蘭而造成加熱管損壞的可能;當爐管移出爐膛時冷確風扇啟動,可實現試樣的迅速降溫,滿足材料驟冷驟熱的實驗要求;
4、爐膛采用進口多晶纖維真空吸附制成,采用進口紅外線加熱管加熱,使用壽命可達5000小時,升溫速度快,*高溫度可達1050℃。
5、預留了真空、氣路快速接口,可配合我司真空系統、混氣系統使用;
6、預留了485轉換接口,可通過我司專用軟件,與計算機互聯,可實現單臺或者多臺電爐的遠程控制、實時追蹤、歷史記錄、輸出報表等功能;
7、設置超溫報警并斷電,漏電保護,操作可靠。
主要用途和適用范圍:
用于半導體器件研發及生產等領域,可滿足離子注入后的快速退火、歐姆接觸快速合金、硅化物合金退火,氧化物生長以及
銅銦鎵硒
光伏應用中的硒沉積等快速熱處理工藝場合。
主要技術參數: