VLF-D(冷坩堝定向凝固爐)
VLF-D冷坩堝晶體生長爐
冷坩堝定向凝固爐是將分瓣水冷
銅坩堝置于強大的交變磁場中,利用感應渦流加熱水冷銅坩堝中的金屬使其融化,并利用電磁力使熔融金屬與水冷銅坩堝保持非接觸狀態。這樣可以避免坩堝對需要熔煉材料的污染。金屬熔化后,籽晶桿邊旋轉邊提拉,從而能夠生長出高純度的金屬單晶或合金單晶。
一、設備特點
1. 采用臥式爐體,側部開門結構,進出料方便,爐體結構緊湊,占地空間小。
2. 支持30段程序控溫,控溫精確,可以控制升溫速率和恒溫時間。
3. 可更換不同的線圈以滿足熔煉不同量的物料需求。
4. 配有觀察孔,可以清晰查看爐內坩堝和物料的情況。
5. 可選配紅外測溫儀,精確測量坩堝內液體溫度。
6. 配有分子泵機組,真空度可達5×10-4 Pa。
7. 電極和坩堝可在爐體外手動轉動,液體可在腔體內傾倒和澆鑄,避免了澆鑄的危險,并可在真空下操作。
8. 具有二次加料系統。
9. 轉動電極和爐體之間采用威爾遜密封,密封性能好,轉動輕松。
10. 可選配水冷機,具有欠壓和斷水報警,使用安全可靠。
11. 采用IGBT電源,具備過溫、斷水保護,并有報警和輸出電流顯示功能。
12. VLF系列真空懸浮熔煉爐是真空或保護氣氛條件下用于高純熔煉、鑄造金屬材料(如鈦、
鎳、
鈷等合金)及
稀土超磁、伸縮合金、濺射靶材、
多晶硅、高純
稀土金屬的理想設備,廣泛適用于大專院校、科研院所和工礦企業。
二、設備優點
1. 能夠熔煉高熔點的金屬材料。
2. 由于沒有坩堝雜質,可生長超高純度的金屬單晶。
3. 縮短熔化時間,實現快速熔化。
4. 水冷銅坩堝損傷較小,壽命長。
5. 水冷銅坩堝與熔融金屬液軟接觸,減少冷卻負載,降低能耗。
6. 金屬熔液在非接觸狀態下易于從坩堝內倒出。
三、水冷系統(選配)
感應爐和水冷銅坩堝上需要水冷卻。
四、結構說明
本產品由爐蓋、爐體、回轉機構、澆鑄裝置、充氣系統、真空系統、IGBT電源控制系統等組成。
1. 爐體:為全不銹鋼結構,采用雙層水冷結構,確保爐殼溫度不超過60℃。爐蓋手動開啟并配有鎖緊裝置,帶觀察孔,方便查看爐內情況。
2. 爐架:由型鋼鋼板組焊成柜架結構,爐體安裝在爐架上。
3. 回轉機構:通過法蘭連接感應線圈,線圈由
銅管繞成螺旋形從爐體引出,密封采用威爾遜密封,可靠性高。坩堝可通過旋轉機構任意角度旋轉完成溶化后的傾倒澆鑄。
4. 真空系統:采用二級泵(擴散泵或分子泵)與直聯泵組合,配有高真空擋板閥以及KF快速連接真空放氣閥和充氣閥。
5. 電源控制系統:采用IGBT懸浮專用電源和全數字電路,電氣系統設有過流、過壓保護,電控屏按西門子標準制作,控溫精度高,操作便捷。
6. 水冷系統:包括各種閥門和管道,具備斷水時聲光報警及自動切斷加熱電源功能。
7. 水溫檢測:安裝溫度計檢測水冷銅坩堝的出水溫度,溫度過高時自動保護,防止坩堝損壞。
8. 精密提拉機構:支持邊旋轉邊提拉操作。
技術參數