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基礎金屬	銅電解銅銅精礦銅管銅棒廢銅銅排銅合金精銅桿再生銅桿銅板帶鋁鋁土礦氧化鋁電解鋁鋁輔料鋁棒鋁合金錠廢鋁鋁桿鋁型材鋁板卷鉛鉛精礦鉛錠鉛蓄電池再生精鉛還原鉛廢鉛蓄電池鉛合金鋅鋅精礦電解鋅鋅合金氧化鋅鋅粉錫錫精礦錫錠錫材
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礦山行業
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綜合

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礦山行業
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2025中國礦物加工大會（CMPC）
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位置：中冶有色 > 有色產品 >

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> 三靶高真空磁控鍍膜濺射系統

三靶高真空磁控鍍膜濺射系統

三靶高真空磁控鍍膜濺射系統

482

規格/型號：暫無

品牌：科晶智達

應用領域：冶金

產地：廣東 - 深圳

廠家/供應商：廣東科晶智達科技有限公司

咨詢電話:：無（請說明信息源自“中冶有色網”）

更新時間：2025-01-25

級別：待認證

三靶高真空磁控鍍膜濺射系統說明介紹

三靶高真空磁控鍍膜濺射系統

三靶高真空磁控鍍膜濺射系統

產地: 廣東

產地類別: 國產離子濺射儀

該設備為小型三靶磁控濺射鍍膜設備，通過模塊式化設計后，系統安裝方便靈活易于維護，適合科研與教學實驗使用。

產品型號

三靶高真空磁控鍍膜濺射系統

主要特點

1、組成由單室超高真空雙靶磁控濺射室，由濺射真空室與管路組成。

2、配有旁抽系統，啟動快不停機即可更換樣品，重復性好。

3、用于鍍制各種單層膜、多層膜系，可實現單靶獨立、雙靶輪流、雙靶共濺射等濺射模式。

4、同時可以實現反應磁控濺射，制備氮化物，氧化物等，可鍍金屬及導磁金屬、合金、化合物、半導體、介質復合膜和其它化學反應膜。

5、作為試驗設備來說達到了***性能價格比。

技術參數

系統由真空腔室、旋轉樣品架、磁控濺射靶、鎧裝加熱器、抽氣系統、真空測量、工作氣路、電控系統等各部分組成。

極限真空優于：5.0x10-5Pa（經烘烤除氣后）

真空漏率小于2.0x10-8Pa.l/S

系統短時間暴露大氣并充干燥氮氣后，再開始抽氣，40分鐘可達到6.0x10-4Pa；

停泵關機12小時后真空度：≤5 Pa

1、真空室腔體尺寸Ф300x350mm，手動上開蓋輔助液壓結構，前有一個觀察窗，樣品臺可旋轉內部連接鎧裝加熱器、真空規、放氣閥等各種規格的法蘭接口，選用優質不銹鋼材料制造，氬弧焊接，表面采用電解拋光處理。采用金屬或氟橡膠圈密封。配備一體機柜標準電箱。

2、磁控濺射靶

靶材尺寸：Φ50mm（其中一個可以濺射磁性材料）；

永磁靶一支、強磁靶一支：射頻濺射與直流濺射兼容，靶內有水冷；配手動擋板。

2個靶可共同向下面的樣品中心濺射，靶與樣品距離90～110mm可調。

3、鎧裝加熱樣品:

加熱區域為Φ100mmX100mm(H),基片加熱最高溫度室溫-600℃±1℃，由熱電偶閉環反饋控制。

配有磁力轉軸，電機驅動每分鐘低于30轉。

標準配件

1、真空部件

進氣角閥：2套；

RF100觀察窗：1套；

觀察窗法蘭：RF100 2個；

電阻規： KF16 1個；

電極引線： CF25 1個；

2、工作真空獲得及測量：

直聯6L/s機械泵： 1臺；

F600分子泵：1臺；

電磁KF20閥：1臺；

5227真空計：1臺

角閥RF16、管路、接頭、充氣閥D6等： 1路；

KF25電磁壓差閥： 1臺；

CF100閘板閥：1臺；

3、相關規格的金屬密封銅圈，氟橡膠密封圈

4、不銹鋼緊固螺栓、螺母、墊片等

5、安裝機臺架組件:

安裝臺架：整個設備安放在一個用承載式標準電箱上，箱體均進行噴塑處理。拆卸方便占地小780mmX580mmx1100mm。

6、電源控制系統

電源布置在標準電箱上，安裝于系統機架上。

7、自制電源

控制電源：1臺（為機械泵、電磁閥等提供電源及過程控制帶邏輯監測）；

樣品加熱電源：1臺（日本產控溫表可實現程序控溫）室溫-600℃±1℃，由熱電偶閉環反饋控制。

8、配套電源

真空計電源：1套

直流DC500W電源：2套

流量顯示、流量控制器：1套

9、備品備件：1套

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標簽：

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企業認證：

營業執照待認證

手機號待認證

所屬領域：

冶金

企業性質：

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