本實用新型公開了一種結構光調制的暗場顯微缺陷三維測量系統,包括光源、空間光調制器、第一透鏡、分光鏡、顯微物鏡、第二透鏡、第三透鏡、濾波器、第四透鏡和CCD;所述空間光調制器用于接收光源發出的光并調制成結構光;所述空間光調制器調制的結構光依次經過第一透鏡、分光鏡和顯微物鏡微縮投影至樣品上并在樣品上反射形成零級光和一級光;所述零級光依次經過顯微物鏡、第二透鏡和第三透鏡達到濾波器;所述一級光依次經過顯微物鏡、第二透鏡、第三透鏡和第四透鏡到達CCD成像。本實用新型解決了現有無損檢測方法存在照明背景光和離焦光干擾缺陷散射光成像的問題。
聲明:
“結構光調制的暗場顯微缺陷三維測量系統” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)