一種半導體工藝,適于使用半導體設備對半導體晶片進行顯影工藝。半導體工藝至少包括下列步驟。在化學溶液經由半導體設備的噴嘴提供至半導體晶片上的期間,藉由半導體設備的攝影裝置依序擷取噴嘴的第一圖像及第二圖像。計算第一圖像及第二圖像的分析區域中化學溶液所占的比例,以判斷半導體設備是否異常。另提供一種適于對半導體晶片進行顯影工藝的半導體設備。
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