本實用新型涉及一種等離子體增強型化學氣相淀積設備薄膜均勻性改善裝置。根據量測儀器獲得的圓片介質厚度分布圖,結合八寸設備生長六寸、八寸圓片的實際情況,通過在八寸分氣盤內側凹槽內增加擋氣圓環,腔體上蓋出氣口零件中心開孔的方式,盡量使氣體收斂于六寸圓片區域,減小圓片邊緣的氣體流量,從而使長膜厚度均勻性改善。本實用新型避免了因長膜均勻性不合格導致的圓片報廢風險,該方法可為改善等離子體增強型化學氣相淀積設備薄膜均勻性提供一種解決方案。
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