公開一種化學機械基板研磨裝置,其可以用互不相同的溫度對多個研磨平板進行控制?;瘜W機械基板研磨裝置包括:多個研磨平板,其包括研磨墊,所述研磨墊用于基板的研磨;多個基板載體,其設置于所述各個研磨平板,并且以與所述各個研磨墊相接觸的形式抓握所述基板;多個調節器,其設置于所述各個研磨平板上部,并對所述各個研磨墊進行微切削;多個溫度測量部,其對所述各個研磨墊的溫度進行測量;溫度調節部,其對所述各個研磨墊的溫度進行調節;以及控制部,其將設置于所述多個研磨平板的研磨墊的溫度控制為互不相同。
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“化學機械基板研磨裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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