本發明提供了一種低壓化學氣相沉積設備以及低壓化學氣相沉控制方法。根據本發明的低壓化學氣相沉積設備包括:真空泵;采集器;布置在真空泵與收集器之間的主閥門;工藝導管;以及布置在工藝導管中的氣流方向檢測裝置。根據本發明的低壓化學氣相沉積設備能夠在真空泵突然出現故障時防止工藝副產品的出現、并防止加工中的晶片報廢,因此,所述低壓化學氣相沉積設備能夠提高成品率,由此降低工藝成本。
聲明:
“低壓化學氣相沉積設備以及低壓化學氣相沉控制方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)