本發明屬于半導體光催化改性復合材料技術領域,尤其涉及一種WO3摻雜改性鉍系光催化材料制備方法和應用,采用常溫條件下超聲振動等常用實驗手段制備出WO3摻雜改性鉍系光催化材料,反應時間較短,避免了高壓設備帶來的危害性,提高了實驗過程的安全性能,降低了廢液排放的有害性,并且制備的樣品尺度均勻,具有較薄的納米片層。本發明實現了常溫常壓制備,合成方法簡單;本發明可以使多種金屬離子同時沉淀,所制備的片層狀納米材料使得光催化性能提高50%;本發明制備得到的WO3改性BiPO4納米金屬氧化物純度較高,無明顯雜質,純度可達99%以上;制備工藝簡單、周期短、成本低,可以達到工業化生產的目的,同時可以在常溫下制備,節約能源消耗。
聲明:
“一種WO3改性BiPO4光催化劑的制備及其應用” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)