本發明涉及一種銅離子印跡膜的制備方法,是針對低濃度的重金屬廢水處理難的情況,采用電控離子交換技術以及離子印跡技術相結合,在三電極體系下采用任意恒電位階梯波法制備離子印跡膜,此制備方法工藝先進,不會造成二次污染和浪費、數據精確翔實,產物為聚合在碳布上的黑色物質,微觀形貌為類球狀物質,亞鐵氰根離子摻雜到膜中,對于低濃度的重金屬廢水具有良好的去除能力,是先進的離子印跡膜的制備方法。
聲明:
“銅離子印跡膜的制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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