本申請公開了一種力學傳感器用鈮酸鋰單晶薄膜圖形化刻蝕方法,包括:制作鈮酸鋰薄膜;清洗上述鈮酸鋰薄膜;在上述鈮酸鋰薄膜表面涂覆光刻膠或濺射金屬薄膜,使用紫外光刻技術得到刻蝕用掩膜層;使用丙酮浸泡鈮酸鋰薄膜,剝離薄膜表面光刻膠;使用離子束刻蝕機對鈮酸鋰薄膜刻蝕;將刻蝕后薄膜進行標準清洗清除表面光刻膠殘留獲得鈮酸鋰薄膜圖形化結構。本申請實現了離子束刻蝕的方法完成了鈮酸鋰單晶圖形化刻蝕,獲得了低粗糙度、高深寬比、高可靠性的鈮酸鋰圖形化結構,通過不同的工藝流程優化,實現了鈮酸鋰的高質量長時間連續刻蝕,進而極大地提高了樣品的成品率,為力學傳感器的后繼工藝提供了理論技術支持。
聲明:
“力學傳感器用鈮酸鋰單晶薄膜圖形化刻蝕方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)