本發明公開了一種原子層沉積制備磷酸鋰薄膜的方法,其特征在于:本發明采用原子層沉積技術,載氣氣流將叔丁基鋰脈沖沖入真空反應室與待鍍基料發生化學自飽和吸附,并發生交換反應,在待鍍基料表面生成鋰置換前驅體,所述鋰置換前驅體再與磷酸三甲酯發生還原反應,生成單層的磷酸鋰薄膜。由于前驅體的化學吸附具有自飽和性,因此實現一個工藝周期完成一個單層磷酸鋰薄層沉積,每重復一個工藝周期,則在前一個單層磷酸鋰薄膜材料上層疊一個磷酸鋰薄膜單層,通過控制工藝循環次數,精確控制磷酸鋰薄膜的厚度。實現磷酸鋰薄膜臺階覆蓋率好,對于空間結構復雜的樣品能夠形成很好的包覆效果,鍍層平整,均勻性強、穩定性高??朔爽F有技術的不足。
聲明:
“原子層沉積制備磷酸鋰薄膜的方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)