本發明涉及一種光磁響應的自修復形狀記憶復合材料及其制備和應用,屬于功能復合材料技術領域。本發明提供一種光磁響應的自修復形狀記憶復合材料,所述復合材料包括下述比例的原料:形狀記憶聚合物基體100重量份,功能填料1~20重量份;其中,所述功能填料為能夠同時響應光和磁刺激的填料。本發明所得光磁響應的自修復形狀記憶復合材料可同時響應光和磁刺激,協同控制實現形狀重構和可逆變化,同時具有優異的形狀記憶輔助自修復性能。
聲明:
“光磁響應的自修復形狀記憶復合材料及其制備和應用” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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