本發明公開了一種紫外納米壓印的減反射膜,包括如下質量份數的組分:高密度聚乙烯25?35份,一氟二氯乙烷10?20份,二甲基硅氧烷35?55份,纖維20?25份,環氧大豆油15?30份,亞油酸10?20份,聚酯樹脂5?10份,分子篩1?7份,石蠟10?20份,氯化石蠟3?10份,石油磺酸鈣13?25份,硫酸45?65份,癸二酸二丁酯3?10份,十七烷基三甲基氯5?15份等。本發明通過對聚氨酯及聚乙烯進行改性而得到納米改性材料,該改性材料具有彈性好、吸音、隔熱、耐油、耐高溫、耐寒、耐磨及減震特性,本發明還具有納米抗菌。
聲明:
“紫外納米壓印的減反射膜” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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