本發明涉及一種場發射顯示器電子發射源及其制造方法,所述制造方法包括提供形成陰極的第一基板,在第一基板上利用網印或微影蝕刻技術制造含有孔穴的陰極電極層,陰極電極層表面經微影制造程序制造光阻保護層,再將低黏度納米碳管溶液涂布在上述光阻保護層并沉積在孔穴中,經真空燒結并利用蝕刻技術去除光阻保護層形成位于孔穴內的具有平坦表面的電子發射源層。電子發射源包括形成在第一基板上的陰極、形成在所述陰極表面并含有孔穴的陰極電極層以及經蝕刻顯像及真空燒結而高密度沉積在孔穴中的帶有平坦表面的電子發射源層。本發明的電子發射源具有較好的平坦性、可提高影像與亮度均勻性并增加納米碳管的密度從而有助于提高電子束電子密度。
聲明:
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