本實用新型公開了一種用于真空燒結爐的加熱室,其包括:加熱室本體、前屏以及后屏。加熱室本體包括:殼體,其為雙層柱狀結構;加熱帶,其同軸套設在殼體內;以及保溫層,其填充在殼體與加熱帶之間。前屏設置在加熱室本體的一端,前屏朝向加熱室本體的一側設有雙層鉬片。后屏設置在加熱室本體的另一端,后屏朝向加熱室本體的一側設有雙層鉬片。本實用新型的用于真空燒結爐的加熱室的前屏和后屏均設有兩層鉬片,提高了前后屏的保溫效果,減少溫度流失,并且減少前后屏的變形,從而延長了其使用壽命,提高所燒結產品的質量。
聲明:
“用于真空燒結爐的加熱室” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)