本發明屬于表面冶金范疇。它是利用稀薄氣體中的輝光放電及濺射現象,在工件周圍設置輔助源極;同時利用真空電弧放電現象,在容器壁上設置一個或多個陰極電弧靶,作為主金屬源。在對工件施加負偏壓作用下,工件升至高溫,依靠欲滲金屬離子的轟擊與擴散,使工件表面獲得具有特殊物理、化學、機械性能的純金屬層、合金層、合金鍍層及化合物滲、鍍層。達到提高滲金屬速度及質量,優化工件表面性能的目的。
聲明:
“加弧輝光離子滲金屬技術及設備” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)